洗浄技術

長年の経験に基づいたノウハウと最先端テクノロジーの融合により、硝子系研磨品に対応した独自の装置を構築しています。 洗浄槽は、弗素樹脂と石英のみを使用して、超音波・メガソニック・機能水・超純水等の組合せにより、サブミクロンの汚れ除去も可能にしています。 使用薬品類は、必要最小限の濃度設定として、界面活性洗浄剤を使用しない機能水と超純水主体の環境にも十分配慮した洗浄技術を確立しています。

 

表面不純物濃度

半導体製造ラインで使用可能な高清浄度（表面不純物：重金属フリー）
Metal <1×10¹⁰ atoms/cm^２
表層1μmエッチング＋ICP-MS測定（石英ガラスウエハにおいて）

 

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